第171章 都搞定了（2 / 2）

张振兴立刻拿起桌子上的报告，看完之后，一脸的震惊！

“二维单晶石墨烯材料？140皮米？”张振兴说道。ъìqυgΕtv.℃ǒΜ

“没错，二维的单晶石墨烯材料，材料厚度几乎可以忽略不计，键长142皮米，因为和硅元素属于同族元素，与纯度达到20个九的单晶硅有很好的贴合性，因为它的导电性正好可以减少电阻，弥补硅的发热问题，同时可以提高运行速度。”

“可是，这样一来，紫外光的强度又成倍数增加，而且，因为碳的光学特性，使它被吸收的更多，这样原本激光光源能够达到要求吗？”

听到张振兴的话，陈阳忍不住感叹，不愧是研究芯片的，提的问题都一针见血！

“为了能够实现高强度的光刻，我们使用波长更短，更加“锋利”的终极紫外光。”

“什么？终极紫外光？”张振兴一脸的不解。

“没错。紫外光的波长范围在10-216纳米之间，之前使用的光源在197纳米的深紫外光，现在光刻机使用的都是13。5纳米极紫外光源，而这还不够，我们用的终极紫外光就是紫外光的极限10纳米终极紫外光。”

“不可能！绝对不可能！”张振兴脱口而出道。

“现在用激光轰击锡液滴获得13、5纳米的极紫外光已经是达到了极限，而且，耗电量达到了惊人的恐怖程度，若是想要获得波长更短，强度更大的终极紫外光，那耗电量岂不是比现在的还要高很多！而且，还要求对光学掩膜发射器达到令人发指的地步，这些……都……”

“都已经突破了！你没发现咱们的这个芯片工厂建在了黑龙基地旁边吗？等到可控核聚变电站运转，电量根本不是问题。”

“至于要求更高的光学掩膜，你看看这个。”说完，陈阳把一个样品送到了张振兴面前。

“这是咱们现在利用芥子扫描显微镜下，动态化学法磨出的平整度±10皮米的掩膜器，相当于一个太平洋那么大面积的玻璃，凹凸误差在10皮米以下！可以大幅度的反射终极紫外光，但是，对其他的光，却可以全部吸收！”

听到这话，张振兴震惊了！

看着那些东西，过了半晌才反应过来！

“这些技术您真的全都突破了？”

这得多少工艺创新点，这得多少创新成果？

光源，栅极构造，光学掩膜器……任何一项，都是重大突破，竟然全部被陈教授一个人搞定了？

“不然呢？要不然咱也没必要非得制造1纳米制程工艺点的光刻机啊。”陈阳笑着说道。

“好，我马上把这些工作全部分发下去，保证在一个星期！不！三天！三天内把成果交个您。”

“好！辛苦了！”

“不！和您的工作比起来，我们这些，不值一提！”张振兴激动道。